Antirefleksinis stiklasyra naudojamas įvairiose pramonės šakose, įskaitant plataus vartojimo elektroniką, saulės baterijas, optinius įrenginius, statybines programas ir netgi gali būti naudojamas kaip meno išsaugojimas. Pagrindinė AR stiklo savybė yra ta, kad jis gali sumažinti šviesos atspindį. Norėdami pagerinti vaizdų ar objektų, žiūrimų ar rodomų per stiklą, aiškumą ir kokybę. Norėdami pasiekti šį efektą, gamybos proceso metu turime apdoroti stiklo paviršių. Stiklo paviršių reikia padengti danga, kuri gali pakeisti stiklo fizines savybes. Taip sumažinant šviesos atspindį ir padidinant šviesos pralaidumą.
Dangos taikymo svarba
Dengimas Šis žingsnis yra būtinas norint paversti įprastą stiklą įantirefleksinis stiklas. Galima sakyti, kad tai yra svarbiausias žingsnis visame neatspindinčio stiklo gamybos procese. Naudojant mikro ir nano masto dangas, galima labai sumažinti šviesos atspindį ant stiklo paviršiaus. Todėl stiklo veikimas buvo pagerintas, o atspindėjimas gali būti sumažintas. Šios dangos sukuria situaciją, kai nuo stiklo paviršiaus atsispindinčios šviesos bangos destruktyviai trukdo viena kitai, taip panaikindamos didelę atspindžio dalį.
Dangų panaudojimas gaminant neatspindintį stiklą
Yra daug būdų, kaip apdoroti stiklo paviršių, kad būtų sukurtos antirefleksinės savybės. Labiausiai paplitę metodai yra cheminis ėsdinimas, fizinis nusodinimas garais (PVD) ir cheminis nusodinimas garais (CVD).
Cheminis ėsdinimas
Cheminis ėsdinimas yra vienas iš seniausių ir plačiausiai naudojamų metodųAR stiklo gamyba. Procesas apima stiklo panardinimą į cheminį tirpalą, kad būtų galima pasirinktinai pašalinti paviršiaus medžiagą. Kontroliuodami ėsdinimo procesą, neatspindinčio stiklo gamintojai gali efektyviai sukurti mikroskopinius raštus, kurie sumažina atspindį.
Kaip tai veikia:Apdorojant stiklą rūgštimi ar kitomis reaguojančiomis cheminėmis medžiagomis, stiklo paviršius išgraviruotas. Šis procesas reikalauja išsamumo. Išgraviravimo laipsnis ir raštas lemia stiklo, kaip neatspindinčios medžiagos, veikimą. Ėsdinimas keičia stiklo paviršiaus struktūrą, sukuria mikrogriovelius. Kai patenka šviesa, stiklo paviršius išsklaido krintantį šviesą, sumažindamas atspindžio kiekį.
Privalumai:Cheminio ėsdinimo kaina yra palyginti maža ir gali būti gaminama masiškai. Paprastai tokios formos antirefleksinis stiklas yra labiau paplitęs. Jis dažniausiai naudojamas architektūriniame stikle, nes architektūrinis stiklas turi turėti antirefleksines savybes dideliems paviršiams.
Fizinis nusodinimas iš garų (PVD)
Fizinis nusodinimas garaisyra pažangesnis antirefleksinių dangų dengimo būdas. Šiame procese stiklas dedamas į vakuuminę kamerą ir plonas antirefleksinės medžiagos sluoksnis nusodinamas ant paviršiaus per garinimo procesą.
Kaip tai veikia:Kietos medžiagos, tokios kaip metalų oksidai (pvz., silicio dioksidas arba titano dioksidas), gali būti išgarintos vakuuminėje kameroje. Išgarintos dalelės kondensuojasi ant stiklo paviršiaus ir sudaro ploną plėvelę. Plėvelės storis ir vienodumas reikalauja tikslios kontrolės, o tai reikalauja ne tik pažangios įrangos, bet ir daug kantrybės. Tai labai svarbu gaminant aukštos kokybės neatspindintį stiklą.
Privalumai:Nors fizinio nusodinimo garais metodas reikalauja tam tikrų įrangos reikalavimų, daugelisneatspindinčių stiklų gamintojaitaip pat nori išbandyti šį metodą. Kadangi PVD gali labai tiksliai valdyti dangos storį. Tai būtina siekiant užtikrinti, kad šviesos bangos, atsispindėjusios iš skirtingų dangos sluoksnių, turėtų destruktyvių trukdžių, efektyviai panaikindamos atspindį. Kai kurios reiklesnės įrangos pritaikymas tokiu būdu puikiai tinka gaminti. Kaip fotoaparatų objektyvai ir moksliniai instrumentai.
Cheminis nusodinimas garais
Cheminis nusodinimas garais (CVD) yra dar vienas vakuuminis procesas. Tačiau tai apima cheminę garų fazės pirmtako reakciją, kuri gali sudarytiantirefleksinė plėvelėant stiklo paviršiaus.
Kaip tai veikia:Šis metodas yra reakcijos dujų mišinio įvedimas į vakuuminę kamerą. Dujos reaguoja viena su kita, sudarydamos vientisą plėvelę. Plėvelė dažniausiai sudaryta iš tokių medžiagų kaip silicio dioksidas, kuris sumažina šviesos atspindį ir pagerina pralaidumą.
Privalumai:CVD leidžia vienodai padengti sudėtingas formas, idealiai tinka 3D objektams ir netaisyklingiems paviršiams. Procesas taip pat gamina dangas, pasižyminčias puikiu sukibimu ir ilgaamžiškumu.
